第25届SIMS大会 | 雪迪龙联合Kore展示全新国产化TOF-SIMS

2026-11-02

2026年10月25日至30日，第25届国际二次离子质谱大会（SIMS 25）在广州召开，这是该全球二次离子质谱（SIMS）领域顶尖学术盛会首次落地中国。本届大会由香港科技大学（广州）主办，展示SIMS技术在环境科学、材料科学、生命科学等方向的研究进展、技术突破和新兴应用。

雪迪龙携手英国子公司Kore Technology共同参展，分享双方联合研发成果——全新升级国产化飞行时间二次离子质谱仪SurfaceSeer I TOF-SIMS，同国内外专家学者交流其在科研领域及半导体等行业的应用前景。

SurfaceSeer I TOF-SIMS

飞行时间二次离子质谱仪

技术特点

▪ 高亮度25kV LMIG一次离子束

▪ 高质量2D/3D成像

▪ 多种离子束及配置可选

▪ 系统及分析参数全部由计算机控制

▪ 高稳定样品台

▪ 支持客户定制

应用领域

▪ 导体和绝缘样品

▪ 涂层及污染分析

▪ 粘附性与印刷适性研究

▪ 半导体

▪ 表面清洁度

▪ 聚合物薄膜

▪ 催化剂与同位素分析

▪ 生物材料与生物相容性

未来，雪迪龙将继续聚力核心技术攻关，携手行业伙伴推进SIMS技术产业化应用，以国产化高端质谱装备赋能半导体、材料研究等领域科研创新。